選擇我們的理由

北京時(shí)代天啟真空科技有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)：天啟真空TORCHVAC?)專(zhuān)門(mén)從事進(jìn)口蒸銦設(shè)備、原子層沉積設(shè)備、團(tuán)簇式沉積設(shè)備、微納米薄膜沉積裝備、脈沖激光沉積、分子束外延、離子束刻蝕機(jī)、約瑟夫森結(jié)鍍膜機(jī)、反應(yīng)離子刻蝕機(jī)、激光直寫(xiě)光刻機(jī)、電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)、超高真空磁控濺射鍍膜機(jī)、樣品表面處理儀器、前驅(qū)體材料、微納加工及真空組件等方面產(chǎn)品的銷(xiāo)售與技術(shù)服務(wù)，致力于國(guó)家半導(dǎo)體技術(shù)、鋰電池、太陽(yáng)能電池等裝備、新能源及新材料領(lǐng)域的一家科技服務(wù)企業(yè)?？蛻?hù)遍及全國(guó)，主要覆蓋北京、上海、深圳、武漢、西安等地。.

專(zhuān)業(yè)服務(wù)團(tuán)隊(duì)

擁有完善精悍的專(zhuān)業(yè)服務(wù)團(tuán)隊(duì)，為客戶(hù)提供優(yōu)質(zhì)的售后支持

完善的企業(yè)管理機(jī)制

完善的企業(yè)管理機(jī)制，提升工作效率

多年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)

多年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)，新能源及新材料領(lǐng)域的一家科技服務(wù)企業(yè)

產(chǎn)品中心

我們與多家企業(yè)建立了長(zhǎng)期的合作關(guān)系。

蒸銦設(shè)備

蒸銦專(zhuān)用設(shè)備，滿(mǎn)足高品質(zhì)銦柱沉積的需要，具有成熟的蒸銦的工藝，具有優(yōu)化的Lift-off工藝設(shè)計(jì)，滿(mǎn)足高厚度、回流、倒裝冷焊的工藝前道要求。

原子層沉積設(shè)備

用于沉積納米級(jí)薄膜、納米粉末包覆、長(zhǎng)深孔樣品鍍膜。具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生產(chǎn)型ALD。具備近100種膜層工藝。

約瑟夫森結(jié)鍍膜機(jī)

用于超導(dǎo)量子實(shí)驗(yàn)室制備超導(dǎo)結(jié)（量子比特和約瑟夫森結(jié)）和量子器件，可以制備大面積、高穩(wěn)定性和可重復(fù)性超導(dǎo)結(jié)。

分子束外延

外延生長(zhǎng)二維材料以及拓?fù)洳牧?、氧化物、氮化物等，如III-V 族,II-VI 族,Si/SiGe ,金屬與金屬氧化物及GaN,AlN, AlGaN, InGaN, AlGaInN,CIGS，OLED 等

產(chǎn)品應(yīng)用

熱忱歡迎各界朋友前來(lái)參觀(guān)、考察、洽談業(yè)務(wù)！

微納米薄膜沉積裝備

樣品表面處理儀器

OLED材料提純?cè)O(shè)備

ALD前驅(qū)體材料

關(guān)于我們

北京時(shí)代天啟真空科技有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)：天啟真空TORCHVAC?)專(zhuān)門(mén)從事微納米薄膜沉積裝備、原子層沉積設(shè)備、分子束外延、脈沖激光沉積、樣品表面處理儀器、前驅(qū)體材料及真空組件等方面產(chǎn)品的銷(xiāo)售與技術(shù)服務(wù)，致力于半導(dǎo)體技術(shù)、鋰電池、太陽(yáng)能電池等裝備、新能源及新材料領(lǐng)域的一家科技服務(wù)企業(yè)。

北京時(shí)代天啟真空科技有限公司(簡(jiǎn)稱(chēng)：天啟真空TORCHVAC?)專(zhuān)門(mén)從事微納米薄膜沉積裝備、樣品表面處理儀器、前驅(qū)體材料及真空組件等.

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^2016年

成立時(shí)間
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產(chǎn)品種類(lèi)
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榮譽(yù)伙伴
¹⁰⁺

應(yīng)用領(lǐng)域

新聞中心

官方認(rèn)證，專(zhuān)業(yè)售后服務(wù)。

原子層沉積過(guò)程

2022-06-22

原子層沉積技術(shù)性逐漸變成沉積功能膜的關(guān)鍵技術(shù)性。該技術(shù)性在納米級(jí)能夠精確控制物質(zhì)的構(gòu)成和形狀。它能夠以單原子膜的方式在基面層一層一層地鍍層沉積物。原子層沉積工藝

原子層沉積設(shè)備的原子層沉積(ALD)技術(shù)

2022-06-22

隨著微電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，集成，設(shè)備尺寸，使許多傳統(tǒng)的微電子材料和技術(shù)面臨巨大的挑戰(zhàn)，但原子層沉積(ALD)技術(shù)作為一種優(yōu)良的涂層技術(shù)，由于其高膜純度、均勻性和保護(hù)

ALD原子層沉積設(shè)備應(yīng)用場(chǎng)景及技術(shù)越來(lái)越廣泛

2022-06-10

原子層沉積是什么？原子層沉積(ALD)是一種薄膜制備技術(shù)，適用于開(kāi)發(fā)產(chǎn)品。它可以以單原子膜的形式在基底表面一層一層地鍍上材料。在沉積的過(guò)程中，兩個(gè)或多個(gè)化學(xué)氣相

原子層沉積設(shè)備的主要功能是什么？

2022-06-02

原子層沉積設(shè)備被廣泛使用，雖然它經(jīng)常出現(xiàn)在許多行業(yè)，但大多數(shù)人并不太了解它。但你不必?fù)?dān)心。接下來(lái)，讓我們來(lái)談?wù)勗訉映练e設(shè)備的主要功能？如果你想知道，繼續(xù)往下看